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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5476114 | 温度測定用装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5481366 | 液処理方法および液処理装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5479867 | 誘導結合プラズマ処理装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5479253 | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5479180 | 載置台 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478586 | 洗浄装置、剥離システム、洗浄方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478565 | 接合システム | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478280 | 基板加熱装置および基板加熱方法、ならびに基板処理システム | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5478145 | ポリマー除去装置およびポリマー除去方法 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5477131 | 基板処理装置 | 2014年 4月23日 | |
| 特許 5475229 | 基板処理方法 | 2014年 4月16日 | 共同出願 |
| 特許 5469741 | 色素増感太陽電池の製造装置及び色素増感太陽電池の製造方法 | 2014年 4月16日 | 共同出願 |
| 特許 5470306 | ２流体ノズル、基板液処理装置、基板液処理方法、及び基板液処理プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5471886 | 高温、高圧処理方法及び高温、高圧処理装置並びに記憶媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474609 | パーティクル数計測方法 | 2014年 4月16日 |
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5476114 5481366 5479867 5479253 5479180 5478586 5478565 5478280 5478145 5477131 5475229 5469741 5470306 5471886 5474609
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