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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5472559 | 光学的に調節可能なソフトマスクプロファイルライブラリを用いる方法及び装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5470236 | 局所露光方法及び局所露光装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5475261 | プラズマ処理装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5475152 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474858 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474855 | 液処理装置、液処理方法及びその液処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474853 | 液処理装置、液処理方法およびこの液処理方法を実行するためのコンピュータプログラムが記録された記録媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474840 | 液処理装置および液処理方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5474666 | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473962 | パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5473857 | 搬送装置および処理システム | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5472169 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5471740 | 基板処理装置 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5467583 | 基板洗浄装置 | 2014年 4月 9日 | |
| 特許 5469015 | 基板処理装置および基板搬送方法 | 2014年 4月 9日 |
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5472559 5470236 5475261 5475152 5474858 5474855 5474853 5474840 5474666 5473962 5473857 5472169 5471740 5467583 5469015
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