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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4697882 | 処理液供給装置及び処理液供給方法並びに処理液供給用制御プログラム | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4696165 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4699127 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4698807 | 半導体基板熱処理装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4696561 | 気化装置及び処理装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4694130 | プラズマ処理装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695063 | 熱処理装置及び熱処理方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4694150 | 処理方法及び処理システム | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697192 | 位置ずれ検出装置及びこれを用いた処理システム | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4695238 | 圧力制御方法 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4699367 | 適応性多変数分析を使用して処理装置を診断する方法および装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4699283 | 熱処理板の温度制御方法、プログラム及び熱処理板の温度制御装置 | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4699061 | 被処理基板の除電方法，基板処理装置，プログラム | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697896 | 半導体製造装置、装置動作パラメータの管理方法、およびプログラム | 2011年 6月 8日 | |
| 特許 4697879 | サーバ装置、およびプログラム | 2011年 6月 8日 |
739 件中 466-480 件を表示
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4697882 4696165 4699127 4698807 4696561 4694130 4695063 4694150 4697192 4695238 4699367 4699283 4699061 4697896 4697879
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