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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5457381 | 現像処理装置及び現像処理方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5462897 | 半導体装置の製造方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5461759 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460982 | 弁体、粒子進入阻止機構、排気制御装置及び基板処理装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460789 | 基板処理装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460641 | 基板洗浄装置及び基板洗浄方法並びに基板洗浄プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460633 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記録した記録媒体 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460475 | 基板液処理装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460011 | 窒化珪素膜の成膜方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマＣＶＤ装置 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5459907 | 基板載置装置の評価装置、及びその評価方法、並びにそれに用いる評価用基板 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5459279 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5459185 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5451793 | 温度センサ及び熱処理装置 | 2014年 3月26日 | 共同出願 |
| 特許 5454407 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5454203 | 塗布方法及び塗布装置 | 2014年 3月26日 |
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5457381 5462897 5461759 5460982 5460789 5460641 5460633 5460475 5460011 5459907 5459279 5459185 5451793 5454407 5454203
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