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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4680239 | 処理装置および搬送方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680251 | リフロー処理装置およびリフロー処理方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4681485 | ウエハケースの運用方法、ウエハケースの搬送方法及びウエハケース搬送用保持部品 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680400 | プラズマ装置及びその製造方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680350 | 枚葉式処理装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680149 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ読み取り可能な記録媒体及び塗布処理装置 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680066 | 基板処理装置の処理室清浄化方法、基板処理装置、および基板処理方法 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4680044 | 液処理方法、液処理装置、制御プログラム、およびコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 5月11日 | |
| 特許 4676643 | 電位固定装置および容量測定装置 | 2011年 4月27日 | 共同出願 |
| 特許 4679720 | 処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4678740 | 塗布処理方法及び塗布処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4678658 | 塗布装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4676359 | プライミング処理方法及びプライミング処理装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4675803 | 平坦化装置 | 2011年 4月27日 | |
| 特許 4678752 | 圧力計の製造方法及びガス処理装置の製造方法 | 2011年 4月27日 |
739 件中 511-525 件を表示
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4680239 4680251 4681485 4680400 4680350 4680149 4680066 4680044 4676643 4679720 4678740 4678658 4676359 4675803 4678752
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