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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2024年12月3日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5452349 | 被処理体の搬送方法、被処理体の搬送装置、及び、プログラム | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5451662 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 3月26日 | |
| 特許 5443070 | インプリントシステム | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449116 | 現像装置、これを備える現像塗布システム、および現像方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5445335 | 基板処理装置のデータ取得方法及び基板処理システム | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5447632 | 基板処理装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5445252 | 成膜装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5445044 | 成膜装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5444961 | 成膜装置及び成膜方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5444599 | ガス供給装置及び成膜装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5444218 | プラズマ処理装置および誘電体窓の温度調節機構 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5443127 | プラズマ処理装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5443910 | プローブの研磨装置及びプローブの研磨方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5443791 | 荷重検出センサおよび荷重検出センサの製造方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448536 | レジスト塗布現像装置およびレジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびレジスト膜処理方法 | 2014年 3月19日 |
694 件中 511-525 件を表示
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5452349 5451662 5443070 5449116 5445335 5447632 5445252 5445044 5444961 5444599 5444218 5443127 5443910 5443791 5448536
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12月13日(金) - 東京 品川
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12月13日(金) -
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