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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5449310 | ウェーハ処理ツール内のウェーハの移動をスケジューリングするシステムと方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5449239 | 基板処理装置、基板処理方法及びプログラムを記録した記憶媒体 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448598 | パーティクル発生要因判定システム、課金方法、及び記憶媒体 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5448373 | 基板処理装置及びその洗浄方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5445006 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5444610 | 光計測を用いた半導体製造プロセスのプロセスパラメータの測定方法 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5444044 | プラズマ処理装置及びシャワーヘッド | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5443565 | プラズマ処理装置 | 2014年 3月19日 | |
| 特許 5442818 | 気体清浄化装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439579 | 液処理装置及び液処理方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5440441 | 液処理装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5438191 | 超音波現像処理方法及び超音波現像処理装置 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5442403 | 基板処理装置及びそのクリーニング方法並びにプログラムを記録した記録媒体 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5440604 | プラズマ処理装置および基板処理方法 | 2014年 3月12日 | |
| 特許 5439771 | 成膜装置 | 2014年 3月12日 |
694 件中 526-540 件を表示
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5449310 5449239 5448598 5448373 5445006 5444610 5444044 5443565 5442818 5439579 5440441 5438191 5442403 5440604 5439771
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