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東京エレクトロン株式会社
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第58位 686件
（
2013年：第60位 712件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第48位 694件
（
2013年：第45位 796件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5434484 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433266 | 針跡の判定方法及び針跡判定用プログラム | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5434329 | 処理液供給装置及び処理液供給方法 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5433290 | 基板収納方法及び制御装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5432686 | プラズマ処理装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5432629 | バッフル板及びプラズマ処理装置 | 2014年 3月 5日 | |
| 特許 5425165 | 基板洗浄方法及び基板洗浄装置 | 2014年 2月26日 | 共同出願 |
| 特許 5430429 | スリットノズル及びスリットノズル清掃装置及びスリットノズル清掃方法 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5425998 | 基板保持部材、基板搬送アーム及び基板搬送装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5428556 | 処理装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5429078 | 成膜方法及び処理システム | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5426725 | 反射装置、連通管、排気システム、及び基板処理装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5426621 | 脈動軽減装置及び検査装置 | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5427536 | プローブカード | 2014年 2月26日 | |
| 特許 5430192 | 温度調節装置、温度調節方法、基板処理装置及び対向電極 | 2014年 2月26日 |
694 件中 556-570 件を表示
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5434484 5433266 5434329 5433290 5432686 5432629 5425165 5430429 5425998 5428556 5429078 5426725 5426621 5427536 5430192
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