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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 4837854	整合器およびプラズマ処理装置	2011年12月14日	共同出願
特許 4837570	レチクル／マスクシステムの適合リアルタイム制御	2011年12月14日	共同出願
特許 4837642	基板搬送位置の位置合わせ方法、基板処理システムおよびコンピュータ読み取り可能な記憶媒体	2011年12月14日
特許 4838525	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置及び可変整合器におけるインピーダンスのプリセット値を決定するためのプログラム	2011年12月14日
特許 4832576	塗布処理装置	2011年12月 7日
特許 4830523	塗布、現像装置、塗布、現像方法及びその方法を実施するためのコンピュータプログラム。	2011年12月 7日
特許 4833859	流体用ギャップを有する基板ホルダとこの基板ホルダの製造方法	2011年12月 7日
特許 4832176	液処理装置および液処理方法	2011年12月 7日
特許 4829937	半導体製造装置のパーツに付着した堆積物またはパーティクルを除去する洗浄装置及び洗浄方法	2011年12月 7日
特許 4833512	被処理体処理装置、被処理体処理方法及び被処理体搬送方法	2011年12月 7日
特許 4833778	基板処理装置及び基板処理方法	2011年12月 7日
特許 4833878	基板の処理方法及び基板処理装置	2011年12月 7日
特許 4833140	昇華物除去装置	2011年12月 7日
特許 4832368	熱処理装置	2011年12月 7日
特許 4833890	プラズマ処理装置及びプラズマ分布補正方法	2011年12月 7日

739 件中 46-60 件を表示

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4837854 4837570 4837642 4838525 4832576 4830523 4833859 4832176 4829937 4833512 4833778 4833878 4833140 4832368 4833890

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