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東京エレクトロン株式会社

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特許 5367000	プラズマ処理装置	2013年12月11日
特許 5363766	プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体	2013年12月11日
特許 5363213	異常検出システム、異常検出方法、記憶媒体及び基板処理装置	2013年12月11日
特許 5362503	洗浄・乾燥処理方法、洗浄・乾燥処理装置、および記録媒体	2013年12月11日
特許 5366235	半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体	2013年12月11日	共同出願
特許 5367522	プラズマ処理装置及びシャワーヘッド	2013年12月11日
特許 5357710	基板処理方法，基板処理装置，プログラムを記録した記録媒体	2013年12月 4日
特許 5358651	熱処理方法及び熱処理装置	2013年12月 4日
特許 5358436	プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置	2013年12月 4日
特許 5356390	マイクロ波プラズマ発生装置およびマイクロ波プラズマ処理装置	2013年12月 4日
特許 5357487	シリコン酸化膜の形成方法、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体およびプラズマ酸化処理装置	2013年12月 4日
特許 5361847	基板処理方法、この基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置	2013年12月 4日
特許 5358366	基板処理装置及び方法	2013年12月 4日
特許 5359286	超臨界処理装置、基板処理システム及び超臨界処理方法	2013年12月 4日
特許 5357486	プラズマ処理装置	2013年12月 4日

794 件中 46-60 件を表示

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5367000 5363766 5363213 5362503 5366235 5367522 5357710 5358651 5358436 5356390 5357487 5361847 5358366 5359286 5357486

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