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東京エレクトロン株式会社

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　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第48位　694件（2013年：第45位　796件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5418071	ダミー基板の使用方法	2014年 2月19日
特許 5417754	成膜方法及び処理システム	2014年 2月19日
特許 5421934	電極製造装置、電極製造方法	2014年 2月19日
特許 5419711	処理システム用の多領域気体供給システム	2014年 2月19日
特許 5421967	接合方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び接合システム	2014年 2月19日
特許 5421825	接合システム、接合方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 2月19日
特許 5420597	液処理装置および液処理方法	2014年 2月19日
特許 5420596	液処理装置および液処理方法	2014年 2月19日
特許 5419933	基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体	2014年 2月19日
特許 5419932	基板処理装置、基板処理方法及びその基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記憶媒体	2014年 2月19日
特許 5419694	歪みゲルマニウム含有層を有するデバイスのためのＵＶ支援による誘電層形成	2014年 2月19日
特許 5411098	分割可能な電極及びこの電極を用いたプラズマ処理装置ならびに電極交換方法	2014年 2月12日
特許 5416163	成膜方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び成膜装置	2014年 2月12日
特許 5411201	インプリントシステム、インプリント方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体	2014年 2月12日
特許 5411512	Ｇｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系膜の成膜方法および記憶媒体	2014年 2月12日

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5418071 5417754 5421934 5419711 5421967 5421825 5420597 5420596 5419933 5419932 5419694 5411098 5416163 5411201 5411512

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