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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4656440 | 基板位置検出装置及びその撮像手段位置調整方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4656364 | プラズマ処理方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4655578 | 成膜装置及び成膜方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4655321 | 熱処理方法 | 2011年 3月23日 | |
| 特許 4654120 | 塗布、現像装置及び塗布、現像方法並びにコンピュータプログラム | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4652327 | 基板処理装置 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4652181 | 気化器及び成膜装置 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4651955 | 成膜方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4650440 | 成膜方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4654119 | 塗布・現像装置及び塗布・現像方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4652250 | 現像処理装置、現像処理方法、コンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4652031 | 現像処理装置 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4653018 | 処理装置及び処理方法 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4652140 | プラズマエッチング方法、制御プログラム、コンピュータ記憶媒体 | 2011年 3月16日 | |
| 特許 4646381 | 塗布液供給装置及び塗布装置 | 2011年 3月 9日 |
739 件中 601-615 件を表示
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4656440 4656364 4655578 4655321 4654120 4652327 4652181 4651955 4650440 4654119 4652250 4652031 4653018 4652140 4646381
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