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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4647316 | 処理装置および処理方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4646941 | 基板処理装置及びその処理室内の状態安定化方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4646880 | プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4646354 | 熱処理装置及び方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4645696 | 被処理体の支持機構及びロードロック室 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4645616 | 成膜装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4644943 | 処理装置 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647510 | 基板の欠陥検査方法及びプログラム | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4648973 | 液処理装置および液処理方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647646 | 液処理装置および液処理方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647499 | 成膜方法およびコンピュータ可読記録媒体 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647401 | 基板保持台、基板温度制御装置及び基板温度制御方法 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4647197 | 被処理体の搬送方法及びコンピュータ読取可能な記憶媒体 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4645167 | フォーカスリング、プラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法。 | 2011年 3月 9日 | |
| 特許 4642225 | 半導体ウエハのＵＨＶと両立する原位置で事前メタライゼーション清浄化およびメタライゼーション | 2011年 3月 2日 | 共同出願 |
739 件中 616-630 件を表示
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4647316 4646941 4646880 4646354 4645696 4645616 4644943 4647510 4648973 4647646 4647499 4647401 4647197 4645167 4642225
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