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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4634265 | 塗布方法及び塗布装置 | 2011年 2月16日 | 共同出願 |
| 特許 4634918 | 真空処理装置 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4635121 | 動的センサ構築およびランタイム実行のための方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633729 | 半導体装置の製造方法およびプラズマ酸化処理方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4633425 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2011年 2月16日 | |
| 特許 4629286 | 無人搬送車 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4629678 | 基板上に材料を堆積させる方法。 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4627164 | 基板保持構造物および基板処理装置 | 2011年 2月 9日 | 共同出願 |
| 特許 4628696 | プラズマＣＶＤ装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627660 | プラズマ処理システムにおける改良されたバッフル板のための装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627659 | プラズマ処理システムにおける改良されたベローズシールドのための装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626956 | 半導体製造装置、液量監視装置、半導体製造装置の液体材料監視方法、及び、液量監視方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4626912 | 被処理体の処理方法、処理装置、薄膜形成方法及び薄膜形成装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628419 | 微小構造体の検査装置、微小構造体の検査方法および微小構造体の検査プログラム | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4629432 | ツール動作を監視する方法及び装置 | 2011年 2月 9日 |
739 件中 661-675 件を表示
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4634265 4634918 4635121 4633729 4633425 4629286 4629678 4627164 4628696 4627660 4627659 4626956 4626912 4628419 4629432
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