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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4629325 | トランジスタの製造方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628874 | プラズマ処理装置及び電位制御装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627262 | 低誘電率膜の形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4624915 | 回転ロールの洗浄機構及び回転ロールの洗浄方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623706 | 超音波洗浄処理装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623715 | 基板搬送機構及び該基板搬送機構を備える基板搬送装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624856 | プラズマ処理装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624207 | 成膜方法及び成膜装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4625387 | プローブカードのクランプ機構及びプローブ装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624936 | 基板の処理方法及びプログラム | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4619562 | 処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4621400 | 半導体基板処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620537 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の制御方法 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620288 | バッチ式熱処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4618288 | 熱媒体循環装置及びこれを用いた熱処理装置 | 2011年 1月26日 |
739 件中 676-690 件を表示
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4629325 4628874 4627262 4624915 4623706 4623715 4624856 4624207 4625387 4624936 4619562 4621400 4620537 4620288 4618288
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