ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2011年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4629325 | トランジスタの製造方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4628874 | プラズマ処理装置及び電位制御装置 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4627262 | 低誘電率膜の形成方法 | 2011年 2月 9日 | |
| 特許 4624915 | 回転ロールの洗浄機構及び回転ロールの洗浄方法 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623706 | 超音波洗浄処理装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4623715 | 基板搬送機構及び該基板搬送機構を備える基板搬送装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624856 | プラズマ処理装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624207 | 成膜方法及び成膜装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4625387 | プローブカードのクランプ機構及びプローブ装置 | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4624936 | 基板の処理方法及びプログラム | 2011年 2月 2日 | |
| 特許 4619562 | 処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4621400 | 半導体基板処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620537 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の制御方法 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4620288 | バッチ式熱処理装置 | 2011年 1月26日 | |
| 特許 4618288 | 熱媒体循環装置及びこれを用いた熱処理装置 | 2011年 1月26日 |
739 件中 676-690 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4629325 4628874 4627262 4624915 4623706 4623715 4624856 4624207 4625387 4624936 4619562 4621400 4620537 4620288 4618288
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月10日(月) - 大阪 大阪市
3月11日(火) - 東京 港区
3月11日(火) - 大阪 大阪市
特許制度に詳しい方にこそ知って欲しい意匠権の使い方 ～コスパの高い意匠権を使って事業を守る方法を、特許権と比較して解説～
3月12日(水) - 東京 港区
3月12日(水) -
3月12日(水) - 愛知 名古屋市中区
3月12日(水) -
3月12日(水) -
3月13日(木) - 東京 港区
3月13日(木) -
3月13日(木) -
3月14日(金) -
3月14日(金) -
3月10日(月) - 大阪 大阪市
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
愛知県名古屋市中区丸の内二丁目８番１１号 セブン丸の内ビル６階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒060-0002 札幌市中央区北2条西3丁目1番地太陽生命札幌ビル7階 特許・実用新案 商標 外国特許 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒140-0002 東京都品川区東品川2丁目2番24号 天王洲セントラルタワー２１Ｆ・２２Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
