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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4606348 | 基板処理装置及び基板搬送方法並びに記憶媒体 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607678 | 熱処理装置、ヒータ及びヒータの製造方法 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607637 | シリコン窒化膜の形成方法、シリコン窒化膜の形成装置及びプログラム | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607618 | 成膜装置、コンピュータプログラム及び記憶媒体 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607576 | 半導体製造装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607474 | 成膜装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607347 | 被処理体の処理方法及び処理装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4606944 | プラズマ処理装置およびインピーダンス調整方法 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4606508 | 天板及びプラズマ処理装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4605853 | 熱処理装置、熱処理システム及び熱処理方法 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607865 | 基板の温度コントロールのための方法とシステム | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607848 | 基板処理装置、基板受け渡し位置の調整方法及び記憶媒体 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607748 | 基板のパーティクル除去方法、その装置及び塗布、現像装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4607517 | プラズマ処理装置 | 2011年 1月 5日 | |
| 特許 4606947 | リークレート測定方法並びにリークレート測定に用いるプログラムおよび記憶媒体 | 2011年 1月 5日 |
739 件中 721-735 件を表示
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4606348 4607678 4607637 4607618 4607576 4607474 4607347 4606944 4606508 4605853 4607865 4607848 4607748 4607517 4606947
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