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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2025年3月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5096182 | 熱処理炉 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5095999 | 半導体処理ツールによって実行されるプロセスを分析する第１の原理シミュレーションを使用するシステム及び方法。 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5097134 | サーバ装置、情報処理方法、及びプログラム | 2012年12月12日 | |
| 特許 5098806 | 電力使用系の断線予測装置及び熱処理装置 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5098964 | ウエハの洗浄方法及び記憶媒体 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5098507 | 半導体装置の製造方法、半導体製造装置及び記憶媒体 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5095990 | 基板処理装置およびクリーニング方法 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5095031 | 排気ポンプ | 2012年12月12日 | |
| 特許 5099101 | プラズマ処理装置 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5097666 | オリフィス板及び流量制御装置 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5099054 | 基板処理装置、基板処理方法、塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 | 2012年12月12日 | |
| 特許 5089513 | プラズマ処理装置システムの制御装置、プラズマ処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091413 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5088331 | 熱処理装置用の構成部品及び熱処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5088284 | 真空処理装置 | 2012年12月 5日 |
902 件中 61-75 件を表示
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5096182 5095999 5097134 5098806 5098964 5098507 5095990 5095031 5099101 5097666 5099054 5089513 5091413 5088331 5088284
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