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東京エレクトロン株式会社
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4826544 | 加熱処理装置、加熱処理方法及び記憶媒体 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4827263 | 熱処理装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4826362 | マイクロレンズの形成方法 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4824590 | 基板処理装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4829094 | 基板処理装置、基板処理方法、基板処理プログラム、および、プログラム記録媒体 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828503 | 基板処理装置、基板搬送方法、コンピュータプログラムおよび記憶媒体 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4824792 | 塗布装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4824723 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828484 | 基板処理装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828293 | 冷媒中の水分除去装置及び検査装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4828451 | 基板処理方法、半導体装置の製造方法および基板処理装置 | 2011年11月30日 | 共同出願 |
| 特許 4828031 | ランプ、ランプを用いた熱処理装置 | 2011年11月30日 | |
| 特許 4824671 | 原子層堆積を実行するための方法およびシステム | 2011年11月30日 | |
| 特許 4823628 | 基板処理方法および記録媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4821078 | 成膜装置及びその累積膜厚の管理方法 | 2011年11月24日 |
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4826544 4827263 4826362 4824590 4829094 4828503 4824792 4824723 4828484 4828293 4828451 4828031 4824671 4823628 4821078
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