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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5088335 | 基板搬送装置及び基板処理システム | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5088331 | 熱処理装置用の構成部品及び熱処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5089121 | シリコン酸化膜の形成方法およびプラズマ処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091906 | 被処理体の昇降機構及び処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5089871 | 半導体装置の製造方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5089765 | 制御装置及び制御方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091764 | 塗布処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び塗布処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5088284 | 真空処理装置 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5091413 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5089306 | 処理システムの制御装置、処理システムの制御方法および制御プログラムを記憶した記憶媒体 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5088167 | プローブ装置、プロービング方法及び記憶媒体 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5090460 | 処理液供給機構および処理液供給方法 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5093162 | 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5090299 | プラズマ処理装置および基板載置台 | 2012年12月 5日 | |
| 特許 5086192 | プラズマ処理装置 | 2012年11月28日 |
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5088335 5088331 5089121 5091906 5089871 5089765 5091764 5088284 5091413 5089306 5088167 5090460 5093162 5090299 5086192
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