ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2011年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2011年 出願公開件数ランキング 第62位 621件
（
2010年：第57位 692件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第41位 739件
（2010年：第39位 580件）
（ランキング更新日：2025年5月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4820007 | 被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4820006 | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823690 | 成膜方法および半導体装置の製造方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4821078 | 成膜装置及びその累積膜厚の管理方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4820008 | 被処理体の搬送システム及び被処理体の搬送方法 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4821074 | 処理システム | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819244 | プラズマ処理装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823628 | 基板処理方法および記録媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4823635 | 成膜方法およびコンピュータ可読記録媒体 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819267 | パルスプラズマ処理方法および装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819106 | 基板処理装置及び温度調節装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4819411 | プラズマ処理装置 | 2011年11月24日 | |
| 特許 4816545 | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4817210 | 成膜装置および成膜方法 | 2011年11月16日 | |
| 特許 4816052 | 半導体製造装置及び半導体装置の製造方法 | 2011年11月16日 |
739 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4820007 4820006 4823690 4821078 4820008 4821074 4819244 4823628 4823635 4819267 4819106 4819411 4816545 4817210 4816052
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
5月27日(火) -
5月27日(火) - 大阪 大阪市
契約の「基礎」から分かる！！ 秘密保持契約と共同開発契約のポイント ～ ケーススタディを通じて契約締結交渉の実践力も養う ～
5月27日(火) - 東京 港区
5月27日(火) -
5月28日(水) - 東京 港区
5月28日(水) - 東京 千代田区
5月28日(水) - 東京 中央区
5月28日(水) -
5月28日(水) -
5月29日(木) - 東京 港区
5月29日(木) - 東京 品川区
5月29日(木) - 東京 新宿区
5月29日(木) -
5月29日(木) -
5月30日(金) -
5月30日(金) -
6月4日(水) -
6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒951-8152 新潟県新潟市中央区信濃町21番7号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
大阪市北区豊崎3-20-9 三栄ビル７階 特許・実用新案 意匠 商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒104-0045 東京都中央区築地1-12-22 コンワビル4F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
