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東京エレクトロン株式会社

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  2012年 出願公開件数ランキング    第53位 714件 上昇2011年:第62位 621件)

  2012年 特許取得件数ランキング    第37位 902件 上昇2011年:第41位 739件)

(ランキング更新日:2020年7月15日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称公報発行日備考
特許 5083193 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2012年11月28日
特許 5082246 プラズマ発生用の電極、プラズマ処理装置及びプラズマ発生用の電極の製造方法 2012年11月28日
特許 5084508 クリーニング方法 2012年11月28日
特許 5083339 基板搬送装置及び基板搬送方法並びに記憶媒体 2012年11月28日
特許 5082229 プラズマ処理装置 2012年11月28日
特許 5084250 ガス処理装置およびガス処理方法ならびに記憶媒体 2012年11月28日
特許 5083268 基板支持装置 2012年11月28日
特許 5082338 エッチング方法及びエッチング装置 2012年11月28日
特許 5081261 塗布装置 2012年11月28日
特許 5084236 デバイス製造装置およびデバイス製造方法 2012年11月28日
特許 5084779 プラグインユニット 2012年11月28日
特許 5082459 プラズマ処理装置及び天板の製造方法 2012年11月28日
特許 5085840 フォトレジストおよびエッチング残渣の除去方法 2012年11月28日
特許 5086283 パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 2012年11月28日
特許 5083285 疎水化処理装置、疎水化処理方法及び記憶媒体 2012年11月28日

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5083193 5082246 5084508 5083339 5082229 5084250 5083268 5082338 5081261 5084236 5084779 5082459 5085840 5086283 5083285

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