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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5082411 | 成膜方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086083 | 基板を処理するための方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083173 | 処理方法及び処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086283 | パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084779 | プラグインユニット | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084508 | クリーニング方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081527 | 気体清浄化装置及び気体清浄化方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084236 | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083268 | 基板支持装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082229 | プラズマ処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084420 | ロードロック装置および真空処理システム | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084656 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084250 | ガス処理装置およびガス処理方法ならびに記憶媒体 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083285 | 疎水化処理装置、疎水化処理方法及び記憶媒体 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082459 | プラズマ処理装置及び天板の製造方法 | 2012年11月28日 |
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5082411 5086083 5083173 5086283 5084779 5084508 5081527 5084236 5083268 5082229 5084420 5084656 5084250 5083285 5082459
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