ホーム > 特許ランキング > 東京エレクトロン株式会社 > 2012年 > 特許一覧
東京エレクトロン株式会社
※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年
東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5082411 | 成膜方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086083 | 基板を処理するための方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083173 | 処理方法及び処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5086283 | パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084779 | プラグインユニット | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084508 | クリーニング方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081527 | 気体清浄化装置及び気体清浄化方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084236 | デバイス製造装置およびデバイス製造方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083268 | 基板支持装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082229 | プラズマ処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084420 | ロードロック装置および真空処理システム | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084656 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084250 | ガス処理装置およびガス処理方法ならびに記憶媒体 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083285 | 疎水化処理装置、疎水化処理方法及び記憶媒体 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082459 | プラズマ処理装置及び天板の製造方法 | 2012年11月28日 |
902 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
5082411 5086083 5083173 5086283 5084779 5084508 5081527 5084236 5083268 5082229 5084420 5084656 5084250 5083285 5082459
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒104-0061 東京都中央区銀座1-8-2 銀座プルミエビル8階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市伏見区深草大亀谷万帖敷町４４６－２ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
京都市東山区泉涌寺門前町２６番地 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
