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東京エレクトロン株式会社
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第53位 714件
（
2011年：第62位 621件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第37位 902件
（2011年：第41位 739件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5084656 | 現像処理方法及び現像処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083153 | 真空処理装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5083268 | 基板支持装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082246 | プラズマ発生用の電極、プラズマ処理装置及びプラズマ発生用の電極の製造方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082411 | 成膜方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5082595 | 成膜装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5081261 | 塗布装置 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5084508 | クリーニング方法 | 2012年11月28日 | |
| 特許 5080775 | 処理終点検出方法及び処理終点検出装置 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5076750 | プローブ装置及びプローブ方法 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5078617 | 選択的プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5079890 | 積層基板及びプローブカード | 2012年11月21日 | |
| 特許 5075246 | 基板搬送装置、基板処理システムおよび基板搬送方法 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5077844 | 光学的に調節可能な反射防止コーティングの作製方法 | 2012年11月21日 | |
| 特許 5079806 | 検査用構造体 | 2012年11月21日 |
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5084656 5083153 5083268 5082246 5082411 5082595 5081261 5084508 5080775 5076750 5078617 5079890 5075246 5077844 5079806
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