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東京エレクトロン株式会社

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  2015年 出願公開件数ランキング    第56位 677件 上昇2014年:第58位 686件)

  2015年 特許取得件数ランキング    第51位 433件 下降2014年:第48位 694件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
再表 2013-161768 成膜方法、成膜装置、及び、成膜システム 2015年12月24日
再表 2013-161769 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 2015年12月24日
再表 2013-164940 被処理基体にドーパントを注入する方法、及びプラズマドーピング装置 2015年12月24日
特表 2015-537372 基板を清浄化するためのプロセスガスの生成 2015年12月24日
特開 2015-233064 エッチング処理方法及びベベルエッチング装置 2015年12月24日
特開 2015-229776 成膜装置、成膜方法及び記憶媒体 2015年12月21日
特開 2015-230899 送液システムの洗浄方法、送液システム、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2015年12月21日
特開 2015-230905 剥離装置、剥離システム、剥離方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 2015年12月21日
特開 2015-230939 冷却処理装置、及び、冷却処理装置の運用方法 2015年12月21日
特開 2015-230948 成膜装置、成膜方法、記憶媒体 2015年12月21日
特開 2015-230957 基板処理装置、ノズル洗浄方法およびノズル洗浄装置 2015年12月21日
特開 2015-230988 プラズマ処理装置およびクリーニング方法 2015年12月21日
特開 2015-231030 基板液処理装置 2015年12月21日
特開 2015-231043 改質処理方法及び半導体装置の製造方法 2015年12月21日
特開 2015-231050 上部誘電石英板及びスロットアンテナの基本概念 2015年12月21日

688 件中 1-15 件を表示

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2013-161768 2013-161769 2013-164940 2015-537372 2015-233064 2015-229776 2015-230899 2015-230905 2015-230939 2015-230948 2015-230957 2015-230988 2015-231030 2015-231043 2015-231050

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