特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年2月27日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2019-537254 | ビア対グリッドのパターニングにおけるオーバレイエラーを減少する方法 | 2019年12月19日 | |
| 特表 2019-537266 | サブ解像度基板パターニング方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-214011 | 脱泡装置および脱泡方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-214109 | 加工装置の調整方法及び加工装置 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-215562 | 現像可能な底部反射防止コーティングおよび着色注入レジストのための化学増幅方法および技術 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216140 | 成膜装置及び成膜装置におけるクリーニング方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216150 | クリーニング方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216151 | 基板処理装置 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216163 | 静電チャック、フォーカスリング、支持台、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216164 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理装置の高周波電源を制御する方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216170 | 基板処理装置および基板処理方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216176 | 載置台、基板処理装置及びエッジリング | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216182 | 成膜装置 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216215 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2019年12月19日 | |
| 特開 2019-216235 | 処理方法およびプラズマ処理装置 | 2019年12月19日 |
665 件中 31-45 件を表示
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2019-537254 2019-537266 2019-214011 2019-214109 2019-215562 2019-216140 2019-216150 2019-216151 2019-216163 2019-216164 2019-216170 2019-216176 2019-216182 2019-216215 2019-216235
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