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東京エレクトロン株式会社

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　■　2019年出願公開件数ランキング　　　第58位　660件（2018年：第67位　588件）

　■　2019年特許取得件数ランキング　　　第58位　415件（2018年：第50位　503件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2019-208016	真空処理装置、シャワーヘッド、および真空処理装置の組み立て方法	2019年12月 5日
特開 2019-203155	成膜装置および成膜方法	2019年11月28日
特開 2019-203943	基板処理装置	2019年11月28日
特開 2019-204815	基板処理方法及び基板処理装置	2019年11月28日
特開 2019-204844	基板処理方法及び基板処理装置	2019年11月28日
特開 2019-204861	サセプタのドライクリーニング方法及び基板処理装置	2019年11月28日
特開 2019-204871	検査装置及び温度制御方法	2019年11月28日
特開 2019-204892	液処理装置、液処理方法、及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体	2019年11月28日
特開 2019-204920	ラジカル失活部品及びこれを用いたプラズマ処理装置、並びにラジカル失活方法	2019年11月28日
特開 2019-204950	酸化物の原子層エッチングの方法	2019年11月28日
再表 2018-154993	基板処理システム	2019年11月21日
特開 2019-199629	溶射装置	2019年11月21日
特開 2019-199630	膜を形成する方法	2019年11月21日
特開 2019-199631	溶射装置	2019年11月21日
特開 2019-199639	成膜装置および成膜方法	2019年11月21日

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2019-208016 2019-203155 2019-203943 2019-204815 2019-204844 2019-204861 2019-204871 2019-204892 2019-204920 2019-204950 2018-154993 2019-199629 2019-199630 2019-199631 2019-199639

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