特許ランキング - 出願人詳細情報 -
東京エレクトロン株式会社
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第58位 660件
（
2018年：第67位 588件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第58位 415件
（
2018年：第50位 503件）
（ランキング更新日：2020年3月26日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 再表 2018-146981 | 成膜システム、成膜方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2019年12月12日 | |
| 再表 2018-147183 | 搬送装置、搬送方法及び記憶媒体 | 2019年12月12日 | |
| 再表 2018-155312 | 基板収納処理装置、基板収納処理方法、及び記録媒体 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-210522 | 成膜方法及び成膜装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-210539 | 成膜方法および成膜装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-211409 | 流量測定方法および流量測定装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212648 | 成膜装置及び成膜方法 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212652 | 基板液処理方法、基板液処理装置及び記憶媒体 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212670 | 基板処理方法および基板処理装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212757 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212775 | 基板載置台及び基板検査装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212776 | 成膜用組成物および成膜装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212777 | 成膜用組成物および成膜装置 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212781 | 基板処理装置および基板温度計測方法 | 2019年12月12日 | |
| 特開 2019-212804 | 塗布膜形成装置及び塗布膜形成装置の調整方法 | 2019年12月12日 |
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2018-146981 2018-147183 2018-155312 2019-210522 2019-210539 2019-211409 2019-212648 2019-212652 2019-212670 2019-212757 2019-212775 2019-212776 2019-212777 2019-212781 2019-212804
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