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東京エレクトロン株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第61位 616件
（
2015年：第56位 677件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第49位 561件
（
2015年：第51位 433件）
（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-183319 | 防汚処理組成物、処理装置、処理方法および処理物品 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-183388 | 密着層形成方法、密着層形成システムおよび記憶媒体 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-183697 | 連結部材および基板処理装置 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-184649 | 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-184664 | 基板搬送方法及び基板処理装置 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-184672 | 塗布液供給装置、塗布液供給装置における洗浄方法及びコンピュータ記憶媒体 | 2016年10月20日 | |
| 特開 2016-184754 | シード層の形成方法、シリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2016年10月20日 | |
| 特表 2016-532311 | 誘導自己組織化用の化学テンプレートを形成するための硬化フォトレジストのＵＶ支援剥離 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181343 | 電源システム、プラズマ処理装置及び電源制御方法 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181390 | マイクロ波プラズマ源およびプラズマ処理装置 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181563 | 熱処理装置 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181577 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181608 | シリコン膜の成膜方法および成膜装置 | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181622 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム | 2016年10月13日 | |
| 特開 2016-181626 | 処理システム、処理方法、及び、プログラム | 2016年10月13日 |
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2016-183319 2016-183388 2016-183697 2016-184649 2016-184664 2016-184672 2016-184754 2016-532311 2016-181343 2016-181390 2016-181563 2016-181577 2016-181608 2016-181622 2016-181626
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新製品開発の「タネ」がみつかる！株式会社リコーによるシーズ発表会 ～リコーの技術(シーズ)やアイデアを使って新製品をつくりませんか？～
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12月4日(水) - 東京 千代田区
12月4日(水) - 東京 港区
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12月5日(木) - 東京 港区
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【特別講演】第8回 前コミュ 生成AIでビジネスチャンスをつかむ前に、生成AI導入に待ち構える法的ハードルを越える方法 ～ つながりを育む出会いの場（知財ネットワーク交流会）～
12月6日(金) -
12月6日(金) - 愛知 豊橋市花田町
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