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東京エレクトロン株式会社

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  2016年 出願公開件数ランキング    第61位 616件 下降2015年:第56位 677件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第49位 561件 上昇2015年:第51位 433件)

(ランキング更新日:2026年5月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2016-191636 液滴体積測定装置、液滴体積測定方法、液滴体積測定用基板及びインクジェット描画装置 2016年11月10日
特開 2016-192483 エッチング方法 2016年11月10日
特開 2016-192528 縦型熱処理装置 2016年11月10日
特開 2016-192534 処理装置および処理方法、ならびにガスクラスター発生装置および発生方法 2016年11月10日
特開 2016-188801 膜厚測定装置および膜厚測定方法 2016年11月 4日
特開 2016-189295 プラズマ処理装置、プラズマ処理方法及び記憶媒体 2016年11月 4日
特開 2016-189409 薄膜の形成方法 2016年11月 4日
特開 2016-189419 基板処理装置 2016年11月 4日
特開 2016-189493 液処理方法、液処理装置及び記憶媒体 2016年11月 4日
特開 2016-186094 タングステン膜の成膜方法 2016年10月27日
特開 2016-186111 原料供給方法、原料供給装置及び記憶媒体 2016年10月27日
特開 2016-186112 成膜装置及び成膜方法並びに記憶媒体 2016年10月27日
特開 2016-186126 原料供給装置、原料供給方法及び記憶媒体 2016年10月27日
特開 2016-186962 熱処理装置、熱処理における異常検出方法及び読み取り可能なコンピュータ記憶媒体 2016年10月27日
特開 2016-187056 載置台 2016年10月27日

623 件中 91-105 件を表示

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2016-191636 2016-192483 2016-192528 2016-192534 2016-188801 2016-189295 2016-189409 2016-189419 2016-189493 2016-186094 2016-186111 2016-186112 2016-186126 2016-186962 2016-187056

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