特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2016年出願公開件数ランキング　　　第61位　616件（2015年：第56位　677件）

　■　2016年特許取得件数ランキング　　　第49位　561件（2015年：第51位　433件）

（ランキング更新日：2025年6月10日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2016-178346	半導体集積回路チップを分離および搬送する方法	2016年10月 6日
特開 2016-172902	原料ガス供給装置及び成膜装置	2016年 9月29日
特開 2016-173924	チューナおよびマイクロ波プラズマ源	2016年 9月29日
特開 2016-174059	薄膜形成方法、および、薄膜形成装置	2016年 9月29日
特開 2016-174081	基板処理方法及び基板処理装置	2016年 9月29日
特開 2016-174141	Ｃｕ配線の製造方法	2016年 9月29日
特開 2016-174159	成膜装置	2016年 9月29日
特表 2016-529736	ハードマスクを横方向にトリミングする方法	2016年 9月23日
特開 2016-170940	マイクロ波自動整合器及びプラズマ処理装置	2016年 9月23日
特開 2016-171159	磁性層をエッチングする方法	2016年 9月23日
特開 2016-171180	基板保持具及びこれを用いた基板処理装置	2016年 9月23日
特開 2016-171229	基板処理装置及び基板処理方法	2016年 9月23日
特開 2016-171244	成膜方法、成膜装置及び記憶媒体	2016年 9月23日
特表 2016-528551	基板裏側のテクスチャリング	2016年 9月15日
特開 2016-165726	パターン形成方法、パターン形成装置、及びコンピュータ可読記憶媒体	2016年 9月15日

623 件中 136-150 件を表示

... 10

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2016-178346 2016-172902 2016-173924 2016-174059 2016-174081 2016-174141 2016-174159 2016-529736 2016-170940 2016-171159 2016-171180 2016-171229 2016-171244 2016-528551 2016-165726

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数