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東京エレクトロン株式会社

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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第83位　585件（2016年：第61位　616件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第66位　431件（2016年：第49位　561件）

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東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-228708	プラズマ成膜装置および基板載置台	2017年12月28日
特開 2017-228726	ガス処理装置、ガス処理方法及び記憶媒体	2017年12月28日
特開 2017-228754	静電容量測定用の測定器、及び、測定器を用いて処理システムにおける搬送位置データを較正する方法	2017年12月28日
特開 2017-228789	検査システム	2017年12月28日
特開 2017-228968	フィルタを設計する方法	2017年12月28日
特開 2017-222928	表面処理による選択的堆積	2017年12月21日
特開 2017-224653	液処理装置、液処理方法及び記憶媒体	2017年12月21日
特開 2017-224657	基板搬送装置および基板搬送方法	2017年12月21日
特開 2017-224658	基板搬送装置および基板搬送方法	2017年12月21日
特開 2017-224661	基板搬送装置および基板搬送方法	2017年12月21日
特開 2017-224669	窒化珪素膜の処理方法および窒化珪素膜の形成方法	2017年12月21日
特開 2017-224673	基板処理方法及び硼素添加珪素の除去方法	2017年12月21日
特開 2017-224684	半導体装置の製造方法、熱処理装置及び記憶媒体。	2017年12月21日
特開 2017-224697	ガス輸送管及びプラズマ処理装置	2017年12月21日
特開 2017-224789	成膜方法およびＴＦＴの製造方法	2017年12月21日

593 件中 16-30 件を表示

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2017-228708 2017-228726 2017-228754 2017-228789 2017-228968 2017-222928 2017-224653 2017-224657 2017-224658 2017-224661 2017-224669 2017-224673 2017-224684 2017-224697 2017-224789

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