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東京エレクトロン株式会社

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  2018年 出願公開件数ランキング    第67位 588件 上昇2017年:第83位 585件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第50位 503件 上昇2017年:第66位 431件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-121024 基板処理装置、ダミーディスペンス方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2018年 8月 2日
特開 2018-121045 塗布膜除去装置、塗布膜除去方法及び記憶媒体 2018年 8月 2日
特開 2018-121051 プラズマ処理装置 2018年 8月 2日
特開 2018-121075 基板処理装置及び基板処理方法 2018年 8月 2日
特開 2018-121077 酸化チタン膜の除去方法および除去装置 2018年 8月 2日
特表 2018-520511 スピンオン・カーボンの平坦化のための技術 2018年 7月26日
特開 2018-116583 流量測定方法及び流量制御方法 2018年 7月26日
特開 2018-116836 アンテナ、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 2018年 7月26日
特開 2018-117006 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 2018年 7月26日
特開 2018-117018 基板処理装置、基板処理方法、及び記憶媒体 2018年 7月26日
特開 2018-117024 プラズマ処理装置 2018年 7月26日
特開 2018-117038 保護膜形成方法 2018年 7月26日
特開 2018-117045 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 2018年 7月26日
特開 2018-117065 金属膜の埋め込み方法 2018年 7月26日
特開 2018-117103 基板処理装置及び基板の冷却方法 2018年 7月26日

591 件中 271-285 件を表示

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2018-121024 2018-121045 2018-121051 2018-121075 2018-121077 2018-520511 2018-116583 2018-116836 2018-117006 2018-117018 2018-117024 2018-117038 2018-117045 2018-117065 2018-117103

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