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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第67位 588件
(2017年:第83位 585件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第50位 503件
(2017年:第66位 431件)
(ランキング更新日:2025年6月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2018-137308 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-137350 | 処理レシピの評価方法、記憶媒体、処理レシピ評価用の支援装置、及び液処理装置 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-137369 | 成膜方法及び成膜装置 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-137383 | 基板搬送装置、基板搬送方法及び記憶媒体 | 2018年 8月30日 | |
特開 2018-137390 | 基板処理装置、および、処理システム | 2018年 8月30日 | |
再表 2017-86158 | 液処理装置 | 2018年 8月23日 | |
特表 2018-523924 | ダミーゲートを用いないパターニング方法 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133364 | 基板処理システム及び基板搬送方法 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133429 | 基板処理装置 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133464 | 真空処理装置、及びメンテナンス装置 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133483 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133558 | 基板液処理装置 | 2018年 8月23日 | |
特開 2018-133568 | 選択的なSiO2堆積を用いた自己整合コンタクトの形成方法 | 2018年 8月23日 | |
再表 2017-81924 | 気化器、成膜装置及び温度制御方法 | 2018年 8月16日 | |
再表 2017-90505 | 基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体 | 2018年 8月16日 |
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2018-137308 2018-137350 2018-137369 2018-137383 2018-137390 2017-86158 2018-523924 2018-133364 2018-133429 2018-133464 2018-133483 2018-133558 2018-133568 2017-81924 2017-90505
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