特許ランキング - 出願人詳細情報 -

東京エレクトロン株式会社

※ ログインすれば出願人(東京エレクトロン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第67位　588件（2017年：第83位　585件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第50位　503件（2017年：第66位　431件）

（ランキング更新日：2024年12月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

東京エレクトロン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-110216	プラズマ処理装置	2018年 7月12日
特開 2018-110219	真空チャンバおよび真空チャンバの扉の施錠方法	2018年 7月12日
特開 2018-110238	基板処理装置及び基板処理装置の基板載置部の雰囲気制御方法	2018年 7月12日
特開 2018-103270	多層多孔質板及び多層多孔質板の製造方法	2018年 7月 5日
特開 2018-104773	パージ方法	2018年 7月 5日
特開 2018-106173	反射防止機能を有する部材の製造方法	2018年 7月 5日
特開 2018-107174	成膜装置および成膜方法	2018年 7月 5日
特開 2018-107175	熱処理装置、熱処理方法及びコンピュータ記憶媒体	2018年 7月 5日
特開 2018-107182	基板処理装置および基板処理方法、ならびに基板処理システム	2018年 7月 5日
特開 2018-107191	エッチング方法	2018年 7月 5日
特開 2018-107192	基板処理装置及び基板処理方法	2018年 7月 5日
特開 2018-107202	プラズマ処理装置及びプラズマ制御方法	2018年 7月 5日
特開 2018-107255	成膜装置、成膜方法及び断熱部材	2018年 7月 5日
特開 2018-107264	消耗判定方法及びプラズマ処理装置	2018年 7月 5日
特開 2018-107265	計測方法、除電方法及びプラズマ処理装置	2018年 7月 5日

591 件中 301-315 件を表示

... 21

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2018-110216 2018-110219 2018-110238 2018-103270 2018-104773 2018-106173 2018-107174 2018-107175 2018-107182 2018-107191 2018-107192 2018-107202 2018-107255 2018-107264 2018-107265

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。東京エレクトロン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数