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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2015-30919	ニッケル電気めっき浴内のＰＨを維持するための装置および方法	2015年 2月16日
特表 2015-504609	中間周波数ＲＦ帯域の高電圧バイアス電力のためのバイパスコンデンサ	2015年 2月12日
特開 2015-28212	等温処理ゾーンを含むプラズマ処理装置	2015年 2月12日
特開 2015-29088	微細溝付き非付着面を有する装着装置	2015年 2月12日
特開 2015-29093	チャンバ内整合及びチャンバ間整合のための、複数パラメータを使用したエッチング速度モデル化及びその使用	2015年 2月12日
特開 2015-29097	異なるサイズのフィーチャへのボイドフリータングステン充填	2015年 2月12日
特開 2015-29104	プラズマ処理システムにおけるイオンエネルギ分布の制御	2015年 2月12日
特開 2015-29132	半導体材料処理装置用の低粒子性能を有するシャワーヘッド電極及びシャワーヘッド電極アセンブリ	2015年 2月12日
特表 2015-503223	ハイブリッドパルス化プラズマ処理システム	2015年 1月29日
特表 2015-503224	プラズマ処理システムにおける不活性物優勢パルス化	2015年 1月29日
特開 2015-19064	イオンビームエッチングシステム	2015年 1月29日
特開 2015-19065	イオン加速器を備えるデュアルチャンバプラズマエッチング装置	2015年 1月29日
特開 2015-15469	コンダクタンス制御を有する化学蒸着装置	2015年 1月22日
特開 2015-10281	ガスシールを有する化学蒸着チャンバ	2015年 1月19日
特表 2015-501538	下方電極アセンブリのためのエッジシール	2015年 1月15日

62 件中 46-60 件を表示

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2015-30919 2015-504609 2015-28212 2015-29088 2015-29093 2015-29097 2015-29104 2015-29132 2015-503223 2015-503224 2015-19064 2015-19065 2015-15469 2015-10281 2015-501538

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