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ラム リサーチ コーポレーション
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第499位 66件
（
2019年：第1534位 16件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第614位 36件
（2019年：第656位 34件）
（ランキング更新日：2024年11月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ラム リサーチ コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-537811 | プラズマチャンバ内のプラズマグロー放電を制御するための方法およびシステム | 2020年12月24日 | |
| 特表 2020-536217 | シリコンチューブを製造するための炉および鋳型を含む電磁鋳造システム | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-536393 | 高エネルギー原子層エッチング | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-536462 | マルチ周波数無線周波数（ＲＦ）バイアス用のＲＦフィルタ | 2020年12月10日 | |
| 特表 2020-535633 | 犠牲エッチングキャップ層を利用した高アスペクト比フィーチャの誘電体ギャップ充填 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535657 | 金属酸化物の原子層エッチング | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-535666 | パルス幅変調されたドーズ制御のためのシステムおよび方法 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-534430 | 電気メッキ中に直交流動および衝突電解質の配送を制御するための方法および装置 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-534689 | ウエハ同士の膜厚合わせのためのチャンバ蓄積に応じた堆積サイクル数の調節による厚さ補償 | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-191474 | 二次パージ対応ＡＬＤシステムにおけるシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置 | 2020年11月26日 | |
| 特表 2020-533484 | アンダーポテンシャル析出および熱的処理を用いた金属薄層の電気化学ドーピング | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-533787 | 光計測を質量計測と組合せるためのシステム及び方法 | 2020年11月19日 | |
| 特表 2020-532712 | ガス排気副生成物測定システム | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532852 | エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および／または折りたたみ式エッジリングアセンブリ | 2020年11月12日 | |
| 特表 2020-532858 | 基板の選択した側に堆積させるためのＰＥＣＶＤ堆積システム | 2020年11月12日 |
66 件中 1-15 件を表示
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2020-537811 2020-536217 2020-536393 2020-536462 2020-535633 2020-535657 2020-535666 2020-534430 2020-534689 2020-191474 2020-533484 2020-533787 2020-532712 2020-532852 2020-532858
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