特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ラム　リサーチ　コーポレーション

※ ログインすれば出願人(ラム　リサーチ　コーポレーション)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2020年出願公開件数ランキング　　　第475位　66件（2019年：第1450位　16件）

　■　2020年特許取得件数ランキング　　　第614位　36件（2019年：第656位　34件）

（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

ラム　リサーチ　コーポレーションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2020-537811	プラズマチャンバ内のプラズマグロー放電を制御するための方法およびシステム	2020年12月24日
特表 2020-536462	マルチ周波数無線周波数（ＲＦ）バイアス用のＲＦフィルタ	2020年12月10日
特表 2020-536393	高エネルギー原子層エッチング	2020年12月10日
特表 2020-536217	シリコンチューブを製造するための炉および鋳型を含む電磁鋳造システム	2020年12月10日
特表 2020-535633	犠牲エッチングキャップ層を利用した高アスペクト比フィーチャの誘電体ギャップ充填	2020年12月 3日
特表 2020-535657	金属酸化物の原子層エッチング	2020年12月 3日
特表 2020-535666	パルス幅変調されたドーズ制御のためのシステムおよび方法	2020年12月 3日
特開 2020-191474	二次パージ対応ＡＬＤシステムにおけるシャワーヘッド裏側の寄生プラズマを抑制するための方法及び装置	2020年11月26日
特表 2020-534689	ウエハ同士の膜厚合わせのためのチャンバ蓄積に応じた堆積サイクル数の調節による厚さ補償	2020年11月26日
特表 2020-534430	電気メッキ中に直交流動および衝突電解質の配送を制御するための方法および装置	2020年11月26日
特表 2020-533787	光計測を質量計測と組合せるためのシステム及び方法	2020年11月19日
特表 2020-533484	アンダーポテンシャル析出および熱的処理を用いた金属薄層の電気化学ドーピング	2020年11月19日
特表 2020-532858	基板の選択した側に堆積させるためのＰＥＣＶＤ堆積システム	2020年11月12日
特表 2020-532712	ガス排気副生成物測定システム	2020年11月12日
特表 2020-532852	エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および／または折りたたみ式エッジリングアセンブリ	2020年11月12日

66 件中 1-15 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2020-537811 2020-536462 2020-536393 2020-536217 2020-535633 2020-535657 2020-535666 2020-191474 2020-534689 2020-534430 2020-533787 2020-533484 2020-532858 2020-532712 2020-532852

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数