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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第478位 71件
(
2015年:第539位 62件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第563位 46件
(
2015年:第376位 69件)
(ランキング更新日:2026年4月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-223009 | 縁部プレナムシャワーヘッドアセンブリを含む堆積装置 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-225616 | 多層セラミック製造技術を使用した発光阻止 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-216817 | 断続的な再修復プラズマを用い、ALDによる酸化ケイ素表面コーティングを使用したラジカル再結合の最少化 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219790 | 対称なコンダクタンスおよびRF供給のための垂直支持柱を備えたチェンバ | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219803 | 流れ均一性を改善させるためのフェースプレート穴を有する低容積シャワーヘッド | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219820 | プラズマ処理チャンバの下側電極アセンブリ | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-212096 | 基板処理のための分光反射率計付き装置 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-213445 | 経験的モード分解を用いたプラズマエッチングシステムおよび方法 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-213447 | 加熱板、基板サポートアッセンブリ、加熱板の製造方法、及び、半導体基板をプラズマ処理する方法 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-213456 | 背面ガス供給管を備えた基板ペデスタルモジュールおよびその製造方法 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-213463 | 高温基板台座モジュール及びその構成要素 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-208018 | 清浄な/汚れた基板のハンドリングのためのエンドエフェクタアセンブリ | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-208027 | コバルトのエッチバック | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-208031 | MRAMスタックをパターニングする乾式プラズマ・エッチング法 | 2016年12月 8日 | |
| 特開 2016-208034 | エッチングチャンバ及び堆積チャンバに利用するための長寿命溶射コーティング | 2016年12月 8日 |
71 件中 1-15 件を表示
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2016-223009 2016-225616 2016-216817 2016-219790 2016-219803 2016-219820 2016-212096 2016-213445 2016-213447 2016-213456 2016-213463 2016-208018 2016-208027 2016-208031 2016-208034
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