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ラム リサーチ コーポレーション
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■ 2018年 出願公開件数ランキング 第549位 52件
（
2017年：第434位 79件）
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第650位 36件
（
2017年：第896位 24件）
（ランキング更新日：2026年10月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ラム リサーチ コーポレーションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2018-204104 | ＲＦおよびガス供給のための金属化セラミック管を備える基板台座モジュール | 2018年12月27日 | |
| 特開 2018-195847 | 金属シード層上の金属酸化物を還元するための方法および装置 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-195810 | ハロゲン除去モジュールならびに関連のシステムおよび方法 | 2018年12月 6日 | |
| 特開 2018-187623 | チャンバコンポーネントの調整 | 2018年11月29日 | |
| 特開 2018-186269 | パターニング用途のための原子層エッチング、反応性前駆体、及びエネルギ源 | 2018年11月22日 | |
| 特開 2018-182315 | パターン崩壊を防ぐためのエッチング後処理 | 2018年11月15日 | |
| 特開 2018-182322 | 原子層エッチングのリセットを伴う選択的堆積 | 2018年11月15日 | |
| 特開 2018-164093 | プラズマ均一性調整のためのマルチ高周波インピーダンス制御 | 2018年10月18日 | |
| 特開 2018-164079 | 窒化シリコンの選択的成長 | 2018年10月18日 | |
| 特開 2018-162513 | 基板処理システムの前駆体蒸気供給システムにおけるフロー監視のためのシステム及び方法 | 2018年10月18日 | |
| 特開 2018-159131 | ウェハ保持装置上のメッキの検知 | 2018年10月11日 | |
| 特開 2018-154924 | 目標水平面への基板の接近を制御するためのシステムおよび方法 | 2018年10月 4日 | |
| 特開 2018-152558 | 遠隔プラズマ膜堆積におけるウエハレベル均一性制御 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-152554 | シリコン酸化物の選択的堆積 | 2018年 9月27日 | |
| 特開 2018-152577 | コンダクタンス制御を有する化学蒸着装置 | 2018年 9月27日 |
52 件中 1-15 件を表示
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2018-204104 2018-195847 2018-195810 2018-187623 2018-186269 2018-182315 2018-182322 2018-164093 2018-164079 2018-162513 2018-159131 2018-154924 2018-152558 2018-152554 2018-152577
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