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ラム リサーチ コーポレーション

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  2018年 出願公開件数ランキング    第577位 52件 下降2017年:第490位 79件)

  2018年 特許取得件数ランキング    第650位 36件 上昇2017年:第896位 24件)

(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2018-204104 RFおよびガス供給のための金属化セラミック管を備える基板台座モジュール 2018年12月27日
特開 2018-195810 ハロゲン除去モジュールならびに関連のシステムおよび方法 2018年12月 6日
特開 2018-195847 金属シード層上の金属酸化物を還元するための方法および装置 2018年12月 6日
特開 2018-187623 チャンバコンポーネントの調整 2018年11月29日
特開 2018-186269 パターニング用途のための原子層エッチング、反応性前駆体、及びエネルギ源 2018年11月22日
特開 2018-182315 パターン崩壊を防ぐためのエッチング後処理 2018年11月15日
特開 2018-182322 原子層エッチングのリセットを伴う選択的堆積 2018年11月15日
特開 2018-162513 基板処理システムの前駆体蒸気供給システムにおけるフロー監視のためのシステム及び方法 2018年10月18日
特開 2018-164079 窒化シリコンの選択的成長 2018年10月18日
特開 2018-164093 プラズマ均一性調整のためのマルチ高周波インピーダンス制御 2018年10月18日
特開 2018-159131 ウェハ保持装置上のメッキの検知 2018年10月11日
特開 2018-154924 目標水平面への基板の接近を制御するためのシステムおよび方法 2018年10月 4日
特開 2018-152554 シリコン酸化物の選択的堆積 2018年 9月27日
特開 2018-152558 遠隔プラズマ膜堆積におけるウエハレベル均一性制御 2018年 9月27日
特開 2018-152560 触媒制御を用いる酸化シリコン上への窒化シリコンの選択的堆積 2018年 9月27日

52 件中 1-15 件を表示

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2018-204104 2018-195810 2018-195847 2018-187623 2018-186269 2018-182315 2018-182322 2018-162513 2018-164079 2018-164093 2018-159131 2018-154924 2018-152554 2018-152558 2018-152560

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