ホーム > 特許ランキング > ラム リサーチ コーポレーション > 2026年の出願公開
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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第194位 151件
(
2025年:第127位 267件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第175位 136件
(
2025年:第136位 217件)
(ランキング更新日:2026年10月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-534853 | マッチレスプラズマ源からの電力出力を調節するためのシステムおよび方法 | 2026年10月21日 | |
| 特開 2026-170327 | 誘電体エッチングにおけるプロファイルツイスティング制御 | 2026年10月21日 | |
| 特表 2026-534485 | マスフローコントローラの自動フロー補正のための化学センサ | 2026年10月16日 | |
| 特表 2026-534479 | 無線周波数場を生成するためのコイル | 2026年10月16日 | |
| 特表 2026-534462 | 調整可能な反応性ガス源を使用する方法および装置 | 2026年10月16日 | |
| 特開 2026-169291 | 基板処理システムにおいてプラズマを生成するために電力を供給する直接駆動システム用のRF基準測定回路 | 2026年10月16日 | |
| 特開 2026-168204 | 高アスペクト比フィーチャのエッチング中の限界寸法制御および保護層の形成に使用される炭素ベース堆積物 | 2026年10月15日 | |
| 特開 2026-168200 | 閉ループ多出力無線周波数(RF)整合 | 2026年10月15日 | |
| 特表 2026-534106 | フォトレジストの乾式現像におけるハロゲン化水素の回収 | 2026年10月14日 | |
| 特表 2026-533787 | 基板処理システムにおけるゾーン化された基板支持体の動的温度制御 | 2026年10月 9日 | |
| 特表 2026-533149 | 電極領域に基づく選択的な基板処理 | 2026年10月 5日 | |
| 特開 2026-153882 | 静磁場を使用するプラズマ一様性制御 | 2026年10月 2日 | |
| 特表 2026-532725 | エッチングプロセスのためのインサイチュパターニング | 2026年10月 1日 | |
| 特表 2026-532554 | 再構成可能な高度モジュール式前駆体送達システム(AMPDS) | 2026年 9月29日 | |
| 特開 2026-149659 | エッジエクスクルージョン制御 | 2026年 9月25日 |
151 件中 1-15 件を表示
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2026-534853 2026-170327 2026-534485 2026-534479 2026-534462 2026-169291 2026-168204 2026-168200 2026-534106 2026-533787 2026-533149 2026-153882 2026-532725 2026-532554 2026-149659
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