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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第157位 55件
(
2025年:第126位 262件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第168位 46件
(
2025年:第136位 215件)
(ランキング更新日:2026年4月2日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2026-510356 | 螺旋状チャネルおよび円形マニホールドを有するシャワーヘッドコールドプレートおよび基板支持体 | 2026年 4月 2日 | |
| 特開 2026-55108 | 金属膜の蒸着 | 2026年 3月30日 | |
| 特開 2026-54567 | 金属膜の蒸着 | 2026年 3月27日 | |
| 特開 2026-53443 | 半導体RFプラズマ処理のためのパルス内のRFパルス | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-53556 | 基板処理台座のための内部フィンを備えた冷却剤チャネル | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-53603 | フェイスレスシャワーヘッド | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-53604 | セラミックベースプレートを備えるマルチプレート静電チャック | 2026年 3月25日 | |
| 特開 2026-48855 | シールを含む台座 | 2026年 3月17日 | |
| 特開 2026-48895 | パージリングを介した局所的なプラズマアークの防止 | 2026年 3月17日 | |
| 特表 2026-508997 | フローオーバーベーパー前駆体供給 | 2026年 3月16日 | |
| 特表 2026-508787 | 基板処理システムのシャワーヘッドのためのカップ状バッフルプレート | 2026年 3月13日 | |
| 特開 2026-42828 | コバルト、ニッケル、および、それらの合金の電気メッキ | 2026年 3月11日 | |
| 特表 2026-508039 | 3Dダイナミックランダムアクセスメモリ(DRAM)および3D-DRAMを製作するための方法 | 2026年 3月10日 | |
| 特表 2026-507749 | 耐アーク性静電チャックおよび静電チャック用のアーク低減プラグ | 2026年 3月 5日 | |
| 特開 2026-35827 | ラジカルおよび前駆体ガスを下流チャンバに供給して遠隔プラズマ膜蒸着を可能にするための温度制御を備えた統合シャワーヘッド | 2026年 3月 4日 |
55 件中 1-15 件を表示
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2026-510356 2026-55108 2026-54567 2026-53443 2026-53556 2026-53603 2026-53604 2026-48855 2026-48895 2026-508997 2026-508787 2026-42828 2026-508039 2026-507749 2026-35827
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