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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第118位 168件
(2024年:第178位 197件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第132位 130件
(2024年:第216位 154件)
(ランキング更新日:2025年8月1日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2025-524798 | プラズマエッチングプロセスのためのバイアス電圧調整済波形の精密フィードバック制御 | 2025年 8月 1日 | |
特開 2025-111580 | 独立して調節可能な台座を用いるマルチステーション半導体処理 | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111599 | 金属含有フォトレジストのためのオールインワン乾式現像 | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111671 | 基板処理システムにおいてプラズマを生成するために電力を供給する直接駆動システム用のRF基準測定回路 | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111726 | シャワーヘッド分割冷却板 | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111754 | ボトムおよびミドルエッジリング | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111755 | カメラウエハを使用した台座セットアップ | 2025年 7月30日 | |
特開 2025-111782 | 反射フーリエプティコグラフィによる大型表面の撮像 | 2025年 7月30日 | |
特表 2025-524492 | 統合高アスペクト比エッチング | 2025年 7月30日 | |
特表 2025-523815 | 堆積アプリケーションのための高効率LED基板ヒータ | 2025年 7月25日 | |
特開 2025-108467 | 自動ウェハーハンドリングロボットの教育及びヘルスチェックのための統合化された適応型位置決めシステム及びルーチン | 2025年 7月23日 | |
特開 2025-108593 | 金属含有フォトレジストからの金属汚染の制御 | 2025年 7月23日 | |
特表 2025-523344 | 温度推定に基づく高周波システム保護 | 2025年 7月23日 | |
特表 2025-523413 | プラズマ動作中のステーション電圧の変調 | 2025年 7月23日 | |
特開 2025-107246 | 有機蒸気によるフォトレジストの現像 | 2025年 7月17日 |
168 件中 1-15 件を表示
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2025-524798 2025-111580 2025-111599 2025-111671 2025-111726 2025-111754 2025-111755 2025-111782 2025-524492 2025-523815 2025-108467 2025-108593 2025-523344 2025-523413 2025-107246
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8月5日(火) - 大阪 大阪市
8月5日(火) -
8月5日(火) -
8月6日(水) -
8月6日(水) -
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8月15日(金) -
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