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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第146位 259件 (2022年:第198位 187件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第292位 112件 (2022年:第512位 53件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2023-182727 | 埋め込み温度センサを備えた基板支持体のためのコネクタ | 2023年12月26日 | |
特開 2023-182766 | エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および/または折りたたみ式エッジリングアセンブリ | 2023年12月26日 | |
特開 2023-182784 | プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム | 2023年12月26日 | |
特開 2023-181326 | 結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法 | 2023年12月21日 | |
特表 2023-553066 | 低周波RF発生器および関連する静電チャック | 2023年12月20日 | |
特開 2023-179650 | 誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質 | 2023年12月19日 | |
特開 2023-179679 | 粗さを低減するための原子層堆積及びエッチング | 2023年12月19日 | |
特表 2023-551893 | 有機蒸気によるフォトレジストの現像 | 2023年12月13日 | |
特開 2023-174888 | フォトレジストのドライ除去用プロセスツール | 2023年12月 8日 | |
特表 2023-550319 | 流路を備えるセラミック部品 | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-550331 | 低抵抗率コンタクト及びインターコネクト | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-550332 | 下流側圧力検知を用いた昇華制御 | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-550333 | 基板全体に均一な温度を有する基板支持体 | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-550342 | 静磁場を使用するプラズマ一様性制御 | 2023年12月 1日 | |
特表 2023-550357 | パージリングを介した局所的なプラズマアークの防止 | 2023年12月 1日 |
259 件中 1-15 件を表示
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2023-182727 2023-182766 2023-182784 2023-181326 2023-553066 2023-179650 2023-179679 2023-551893 2023-174888 2023-550319 2023-550331 2023-550332 2023-550333 2023-550342 2023-550357
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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