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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-182727	埋め込み温度センサを備えた基板支持体のためのコネクタ	2023年12月26日
特開 2023-182766	エッジリングの位置決めおよびセンタリング機構を組み込んだプラズマシース調整のための交換可能および／または折りたたみ式エッジリングアセンブリ	2023年12月26日
特開 2023-182784	プラズマチャンバ内で使用するためのリング構造およびシステム	2023年12月26日
特開 2023-181326	結合リング内に電極を使用することによってエッジ領域におけるイオンの方向性を制御するためのシステム及び方法	2023年12月21日
特表 2023-553066	低周波ＲＦ発生器および関連する静電チャック	2023年12月20日
特開 2023-179650	誘電体における高アスペクト比フィーチャのプラズマエッチング化学物質	2023年12月19日
特開 2023-179679	粗さを低減するための原子層堆積及びエッチング	2023年12月19日
特表 2023-551893	有機蒸気によるフォトレジストの現像	2023年12月13日
特開 2023-174888	フォトレジストのドライ除去用プロセスツール	2023年12月 8日
特表 2023-550319	流路を備えるセラミック部品	2023年12月 1日
特表 2023-550331	低抵抗率コンタクト及びインターコネクト	2023年12月 1日
特表 2023-550332	下流側圧力検知を用いた昇華制御	2023年12月 1日
特表 2023-550333	基板全体に均一な温度を有する基板支持体	2023年12月 1日
特表 2023-550342	静磁場を使用するプラズマ一様性制御	2023年12月 1日
特表 2023-550357	パージリングを介した局所的なプラズマアークの防止	2023年12月 1日

259 件中 1-15 件を表示

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2023-182727 2023-182766 2023-182784 2023-181326 2023-553066 2023-179650 2023-179679 2023-551893 2023-174888 2023-550319 2023-550331 2023-550332 2023-550333 2023-550342 2023-550357

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