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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第1534位 16件 (2018年:第577位 52件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2019-537837 | 統合した直接の誘電体および金属の蒸着 | 2019年12月26日 | |
特表 2019-537240 | 複雑な多変量ウエハ処理機器における機械学習を実行する方法及びプロセス | 2019年12月19日 | |
特表 2019-536268 | アクティブシャワーヘッド | 2019年12月12日 | |
特表 2019-534571 | 静電気的にクランプされたエッジリング | 2019年11月28日 | |
特開 2019-153789 | 保護皮膜を備える石英部品 | 2019年 9月12日 | |
特開 2019-131888 | 耐プラズマ皮膜塗布のために表面を選択的にパターニングする方法 | 2019年 8月 8日 | |
特開 2019-96888 | パルス化された低周波数RF電力による高選択性かつ低応力のカーボンハードマスク | 2019年 6月20日 | |
特開 2019-91885 | プラズマ処理チャンバのための電極 | 2019年 6月13日 | |
特開 2019-83309 | 半導体製造装置のためのユーザ相互作用を自動化するシステムおよび方法 | 2019年 5月30日 | |
特開 2019-75555 | プロセスパラメータを決定するための方法及び装置 | 2019年 5月16日 | |
特開 2019-62198 | 汎用マルチプロトコル産業用データロガー | 2019年 4月18日 | |
特開 2019-53978 | イオンの方向性を増大させるためのマルチレジームプラズマウエハ処理 | 2019年 4月 4日 | |
特開 2019-50413 | デュアルチャンバ構成のパルスプラズマチャンバ | 2019年 3月28日 | |
特表 2019-507375 | パターン形成プロセスを制御する方法、リソグラフィ装置、メトロロジ装置リソグラフィックセル、および関連するコンピュータプログラム | 2019年 3月14日 | |
特開 2019-31736 | 完全浸漬された無空気の帰還流量制御弁を用いた気泡および発泡解消方法 | 2019年 2月28日 |
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2019-537837 2019-537240 2019-536268 2019-534571 2019-153789 2019-131888 2019-96888 2019-91885 2019-83309 2019-75555 2019-62198 2019-53978 2019-50413 2019-507375 2019-31736
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最新の制度改正を反映 海外の特許制度と実務上の留意点(米国・欧州(EPC)・中国)~米国ならびに EPC (欧州特許条約)・中国の各制度の下でのグローバル特許取得の基本的な知識と留意点を解説します~
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