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ラム　リサーチ　コーポレーション

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-152577	コンダクタンス制御を有する化学蒸着装置	2018年 9月27日
特開 2018-145524	電気メッキのための幅広リップシール	2018年 9月20日
特開 2018-142698	エアギャップの形成方法	2018年 9月13日
特開 2018-142711	プラズマ処理システムにおける不活性物優勢パルス化	2018年 9月13日
特開 2018-139287	最適化された低エネルギ／高生産性の蒸着システム	2018年 9月 6日
特開 2018-137438	基板処理チャンバで利用する温度制御されたスペーサ	2018年 8月30日
特開 2018-129509	半導体処理ツールとの随意の統合を伴うスマートバイブレーションウエハ	2018年 8月16日
特開 2018-117116	処理のエンドポイントを制御するためのスペクトルの時系列からの特徴強要方法	2018年 7月26日
特開 2018-113450	ウェハバイアスを決定するための方法およびプラズマシステム	2018年 7月19日
特開 2018-110221	ガスシールを有する化学蒸着チャンバ	2018年 7月12日
特開 2018-98492	ＲＦ供給のためのファラデーケージを埋め込まれたセラミック製静電チャックと、操作、監視、及び制御のための関連の方法	2018年 6月21日
特開 2018-98497	メサ間の領域の深さが異なる基板支持体および対応する温度依存の加工方法	2018年 6月21日
特開 2018-85502	酸化アルミニウムエッチング停止層の蒸着	2018年 5月31日
特開 2018-85504	ＡＬＤギャップ充填スペーサマスクを用いる自己整合型マルチパターニングプロセスフロー	2018年 5月31日
特開 2018-82161	ＲＦ供給のためのファラデーケージの一部を形成するクランプ電極アセンブリを備えた静電チャックおよび関連方法	2018年 5月24日

52 件中 16-30 件を表示

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2018-152577 2018-145524 2018-142698 2018-142711 2018-139287 2018-137438 2018-129509 2018-117116 2018-113450 2018-110221 2018-98492 2018-98497 2018-85502 2018-85504 2018-82161

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