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ラム　リサーチ　コーポレーション

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第577位　52件（2017年：第490位　79件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第650位　36件（2017年：第896位　24件）

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公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2018-78284	開放空間均圧化通路および側方閉じ込めを備えた平坦な基板縁部接触部	2018年 5月17日
特開 2018-74145	半導体パターニング用途のための高ドライエッチング速度材料	2018年 5月10日
特開 2018-58752	超音波を用いる熱間等方圧加圧においてセラミック部品を形成するための方法および装置	2018年 4月12日
特開 2018-59183	ＰＥＣＶＤ加熱シャワーヘッドのための回転摩擦溶接ブランク材	2018年 4月12日
特開 2018-61007	半導体パターニング用途のためのドープＡＬＤ膜	2018年 4月12日
特開 2018-50038	プラズマ支援および熱原子層堆積プロセスによる窒化膜形成	2018年 3月29日
特開 2018-50041	ポンプ排気システムにおける廃物の蓄積を低減するためのシステムおよび方法	2018年 3月29日
特開 2018-37662	プラズマ処理中における磁場パターンの制御／調整方法	2018年 3月 8日
特開 2018-37668	デュアルチャンバ構成のパルスプラズマチャンバ	2018年 3月 8日
特開 2018-32853	エッチングプロセスと堆積プロセスとの間を繰り返し移行させるためにＲＦ電力比を切り替えるシステムおよび方法	2018年 3月 1日
特開 2018-32854	移動可能エッジリングおよびガス注入調節によるウエハ上ＣＤ均一性の制御	2018年 3月 1日
特開 2018-26331	メインＲＦ発生器およびエッジＲＦ発生器を同期させることによってプラズマチャンバ内のエッジ領域に関連する予め定められた要素を達成するためのシステムおよび方法	2018年 2月15日
特開 2018-26547	ウエハエッジにおける方位角方向の厚さの均一性を向上させるためのポケット内ウエハのセンタリング	2018年 2月15日
特開 2018-26555	堆積期間にわたる基板温度を変化させることによる界面反応の抑制	2018年 2月15日
特開 2018-26558	プラズマ処理システムを監視するための方法およびシステム、ならびに高度なプロセスおよびツール制御	2018年 2月15日

52 件中 31-45 件を表示

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2018-78284 2018-74145 2018-58752 2018-59183 2018-61007 2018-50038 2018-50041 2018-37662 2018-37668 2018-32853 2018-32854 2018-26331 2018-26547 2018-26555 2018-26558

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