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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第94位 457件
(
2014年:第113位 412件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第59位 406件
(
2014年:第66位 549件)
(ランキング更新日:2025年11月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5741676 | シラノール基含有オレフィン化合物の製造方法 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742421 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び気体分離膜 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742439 | 蛍光性化合物及び蛍光性樹脂組成物 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742661 | ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742667 | 熱伝導性シリコーン複合シート | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742776 | 希土類永久磁石及びその製造方法 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5742806 | レジスト保護膜材料及びパターン形成方法 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5743008 | フォトマスクブランク及びその製造方法、フォトマスク、光パターン照射方法、並びにハーフトーン位相シフト膜の設計方法 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5743284 | 自己乳化性マイクロエマルション組成物及び繊維処理剤 | 2015年 7月 1日 | |
| 特許 5739360 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5739372 | 接着剤組成物、並びにこれを用いた接着シート、半導体装置保護用材料、及び半導体装置 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5739375 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5739376 | モールド作製用ブランクおよびモールドの製造方法 | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5739380 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物及びそれを用いた光半導体デバイス | 2015年 6月24日 | |
| 特許 5739456 | 多結晶シリコン製造装置および多結晶シリコンの製造方法 | 2015年 6月24日 |
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5741676 5742421 5742439 5742661 5742667 5742776 5742806 5743008 5743284 5739360 5739372 5739375 5739376 5739380 5739456
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