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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第79位 375件
(2023年:第79位 394件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第78位 380件
(2023年:第71位 433件)
(ランキング更新日:2025年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7600752 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2024年12月17日 | |
特許 7600753 | レジスト材料及びパターン形成方法 | 2024年12月17日 | |
特許 7600886 | オルガノポリシロキサン変性シクロデキストリン化合物及びこれを含有する化粧料 | 2024年12月17日 | |
特許 7600894 | 含フッ素アクリル組成物、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物並びに物品 | 2024年12月17日 | |
特許 7601807 | 負極活物質及び負極 | 2024年12月17日 | |
特許 7599799 | 光硬化性マレイミド樹脂組成物 | 2024年12月16日 | |
特許 7599800 | 光硬化性マレイミド樹脂組成物 | 2024年12月16日 | |
特許 7599803 | エポキシ樹脂組成物 | 2024年12月16日 | |
特許 7599804 | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物及び熱硬化性エポキシ樹脂シート | 2024年12月16日 | |
特許 7599805 | パーフルオロポリエーテル-オルガノポリシロキサンブロックコポリマー | 2024年12月16日 | |
特許 7599856 | ポリイミド樹脂及びその製造方法、感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、電子部品 | 2024年12月16日 | |
特許 7600350 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート及び加熱溶融押出用組成物 | 2024年12月16日 | |
特許 7600351 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート及び加熱溶融押出用組成物 | 2024年12月16日 | |
特許 7598773 | 6-イソプロペニル-3-メチル-9-デセニル=アセテートの製造方法及びその中間体 | 2024年12月12日 | |
特許 7596928 | 研磨用組成物 | 2024年12月10日 |
392 件中 16-30 件を表示
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7600752 7600753 7600886 7600894 7601807 7599799 7599800 7599803 7599804 7599805 7599856 7600350 7600351 7598773 7596928
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