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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第425位 74件
（
2023年：第405位 81件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第488位 54件
（
2023年：第1516位 13件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエム・アイピー・ホールディング・ベー・フェーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7504584 | 窒化ガリウムの選択的堆積を用いてデバイス構造体を形成する方法及びそのためのシステム | 2024年 6月24日 | |
| 特許 7502009 | 基材処理装置および方法 | 2024年 6月18日 | |
| 特許 7502039 | 基板処理装置 | 2024年 6月18日 | |
| 特許 7499079 | 同軸導波管を用いたプラズマ装置、基板処理方法 | 2024年 6月13日 | |
| 特許 7495569 | 有機膜の堆積 | 2024年 6月 4日 | |
| 特許 7479808 | 基板処理装置 | 2024年 5月 9日 | |
| 特許 7479855 | シリコン酸化物の形態選択的な膜形成の方法 | 2024年 5月 9日 | |
| 特許 7479334 | ＳｉＯＣ薄膜の形成 | 2024年 5月 8日 | |
| 特許 7477315 | ３－Ｄ ＮＡＮＤアプリケーションでのプラグ充填堆積の装置および方法 | 2024年 5月 1日 | |
| 特許 7470763 | 熱原子層エッチングプロセス | 2024年 4月18日 | |
| 特許 7470173 | 誘電体上の酸化物の選択的ＰＥＡＬＤ | 2024年 4月17日 | |
| 特許 7467045 | 基材処理用垂直炉およびその中で使用するライナー | 2024年 4月15日 | |
| 特許 7467072 | 基材を処理するための基材処理装置 | 2024年 4月15日 | |
| 特許 7467723 | 垂直炉用のライナーおよびフランジ組立品ならびにライナーおよび垂直炉 | 2024年 4月15日 | |
| 特許 7460319 | 層形成方法 | 2024年 4月 2日 |
54 件中 31-45 件を表示
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7504584 7502009 7502039 7499079 7495569 7479808 7479855 7479334 7477315 7470763 7470173 7467045 7467072 7467723 7460319
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