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台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司

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  2023年 出願公開件数ランキング    第641位 46件 下降2022年:第231位 161件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第2186位 8件 上昇2022年:第3719位 4件)

(ランキング更新日:2024年9月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2023-106301 半導体装置における均一なトレンチおよびその製造方法 2023年 8月 1日
特開 2023-98812 メモリ装置及びその製造方法 2023年 7月11日
特開 2023-98815 極端紫外線リソグラフィーマスク用の薄膜及びその製造方法 2023年 7月11日
特開 2023-98819 磁気抵抗ランダムアクセスメモリ装置の外部磁場検出 2023年 7月11日
特開 2023-98820 半導体基板内にゲルマニウム領域を配置した半導体装置 2023年 7月11日
特開 2023-98848 窒化ガリウム系装置及びそのテスト方法 2023年 7月11日
特開 2023-86085 磁気トンネル接合装置及びその形成方法 2023年 6月21日
特開 2023-74457 III-V族/シリコン及びシリコン相補型金属酸化膜半導体集積回路に用いられるヘテロジニアス集積化方式 2023年 5月29日
特開 2023-74491 トレンチ型BEOL記憶セル 2023年 5月29日
特開 2023-71588 CMOSイメージセンサおよびその製造方法 2023年 5月23日
特開 2023-66365 縦型電界効果トランジスタ及びその形成方法 2023年 5月15日
特開 2023-26404 スキップロジックを有するビット単位の積和累積 2023年 2月24日
特開 2023-24391 極端紫外線リソグラフィフォトマスクに用いられるフォトマスクペリクル及びその製造方法 2023年 2月16日
特開 2023-24406 極端紫外線リソグラフィマスク用のマスクペリクル及びその製造方法 2023年 2月16日
特開 2023-16734 半導体メモリ構造、および、その形成方法 2023年 2月 2日

49 件中 31-45 件を表示

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2023-106301 2023-98812 2023-98815 2023-98819 2023-98820 2023-98848 2023-86085 2023-74457 2023-74491 2023-71588 2023-66365 2023-26404 2023-24391 2023-24406 2023-16734

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