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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第263位 162件
(2014年: 0件)
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第236位 126件
(2014年: 0件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2015-53501 | シリコン含有膜の平滑SiConiエッチング | 2015年 3月19日 | |
特表 2015-507824 | リチウムイオン電池の電極を熱コーティングする装置および方法 | 2015年 3月12日 | |
特表 2015-507844 | 内蔵加熱要素 | 2015年 3月12日 | |
特表 2015-507097 | 回転式基板処理システム | 2015年 3月 5日 | |
特表 2015-507362 | 共形窒化シリコン炭素膜および共形窒化シリコン膜の低温プラズマ化学気相堆積 | 2015年 3月 5日 | |
特表 2015-507363 | スペーサおよびスペーサ保護用途のための共形アモルファスカーボン | 2015年 3月 5日 | |
特開 2015-43421 | 振幅変調された高周波エネルギーを使用してゲート誘電体をプラズマ窒化するための方法及び装置 | 2015年 3月 5日 | |
特開 2015-43430 | 除害システムの効率的な運転のための方法及び装置 | 2015年 3月 5日 | |
特表 2015-506594 | ロードカップ内の基板を感知するための方法および装置 | 2015年 3月 2日 | |
特表 2015-505901 | 回転可能なスパッタターゲット | 2015年 2月26日 | |
特表 2015-505518 | 改善された研磨ヘッド保持リングのための方法および装置 | 2015年 2月23日 | |
特開 2015-28218 | 原子層堆積装置 | 2015年 2月12日 | |
特開 2015-29095 | CMP後洗浄用の両面バフモジュール | 2015年 2月12日 | |
特表 2015-504239 | 水蒸気処理を使用して基板から材料層を除去する方法 | 2015年 2月 5日 | |
特表 2015-503841 | 原子水素を用いて基板表面を洗浄するための方法及び装置 | 2015年 2月 2日 |
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2015-53501 2015-507824 2015-507844 2015-507097 2015-507362 2015-507363 2015-43421 2015-43430 2015-506594 2015-505901 2015-505518 2015-28218 2015-29095 2015-504239 2015-503841
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6月16日(月) - 東京 大田
6月17日(火) -
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6月17日(火) -
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6月17日(火) -
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6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月18日(水) -
6月19日(木) - 大阪 大阪市
6月19日(木) -
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) - 東京 千代田区
6月20日(金) -
6月20日(金) - 愛知 名古屋市
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